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薄膜材料制備廣泛用于:真空或氣氛燒結(jié)、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環(huán)境。該設備技術(shù)成熟、質(zhì)量可靠，溫場均勻，結(jié)構(gòu)合理，法蘭以卡箍密封，安裝拆卸簡便快捷，是各大材料實驗室的理想設備之一。

PECVD化學氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時，可將設備置于移動柜上以節(jié)約空間。

設備描述：CVD化學氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時，可將設備置于移動柜上以節(jié)約空間。各通道氣路的流量設定和狀態(tài)顯示都集中在一個7“的觸摸屏上，同時可以實時查看氣體流量曲線和數(shù)據(jù)。此款設備廣泛的用于材料界中CVD實驗和各種材料的退火實驗。

化學氣相沉積設備描述：CVD化學氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時，可將設備置于移動柜上以節(jié)約空間。各通道氣路的流量設定和狀態(tài)顯示都集中在一個7“的觸摸屏上，同時可以實時查看氣體流量曲線和數(shù)據(jù)。此款設備廣泛的用于材料界中CVD實驗和各種材料的退火實驗。

CVD化學氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng)，化學氣相沉積設備質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里，移動柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時，可將設備置于移動柜上以節(jié)約空間。各通道氣路的流量設定和狀態(tài)顯示都集中在一個7“的觸摸屏上，同時可以實時查看氣體流量曲線和數(shù)據(jù)。此款設備廣泛的用于材料界中CVD實驗和各種材料的退火實驗。

化學氣相沉積設備CVD1200C-II-SL 200D50-5Z 雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動并可實現(xiàn)快速升降溫；PLC控制5路質(zhì)子流量器，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實現(xiàn)對管式爐快速抽真空。CVD（化學氣象沉積系統(tǒng)）常用于表面材料生長、沉積，是一款實驗室常用設備技術(shù)參數(shù)