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PECVD

更新時(shí)間： 2025-01-14

產(chǎn)品型號(hào)：

產(chǎn)品報(bào)價(jià)：

所在地：合肥市新站區(qū)穎河路22號(hào)

產(chǎn)品特點(diǎn)： PECVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里，移動(dòng)柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí)，可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。

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產(chǎn)品概述

　　PECVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計(jì)控制系統(tǒng)，其質(zhì)量流量計(jì)和不銹鋼混氣罐都安裝在一個(gè)移動(dòng)柜里，移動(dòng)柜Z大可以承重1000Lbs，所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時(shí)，可將設(shè)備置于移動(dòng)柜上以節(jié)約空間。

　　工作溫度：5~45?C

　　zui大壓力:3x106 Pa

　　精度: ±1.5% FS

　　線性:±(0.5-1.5)%F.S

　　重復(fù)精度: ±0.2%F.S.

　　流量范圍:

　　一路:1~199 SCCM

　　二路:1~499 SCCM

　　PECVD注意：其他流量范圍的可定制，需額外費(fèi)用

　　化學(xué)氣相沉積設(shè)備CVD1200C-II-SL200D50-5Z雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)三部分組成。雙溫區(qū)滑軌爐可移動(dòng)并可實(shí)現(xiàn)快速升降溫；PLC控制5路質(zhì)子流量器，能夠精確控制系統(tǒng)的供氣；真空泵可實(shí)現(xiàn)對(duì)管式爐快速抽真空。CVD(化學(xué)氣象沉積系統(tǒng))常用于表面材料生長(zhǎng)、沉積，是一款實(shí)驗(yàn)室常用設(shè)備技術(shù)參數(shù)