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CVD石墨烯制備使用的時候需要注意哪些事情
來源:技術文章    更新時間:2019-07-24    瀏覽:2214次
   CVD石墨烯制備使用的時候需要注意哪些事情
 
  本產(chǎn)品不僅可應用于氧化石墨在快速高溫下裂解制備石墨烯的工藝工程,還可應用于改性石墨熱處理制備膨脹石墨等專業(yè)領域
 
  此儀器為用戶提供快速高溫、真空、可控氣氛的實驗環(huán)境,產(chǎn)品加熱元件采用紅外燈管,升溫速度快,節(jié)省時間。滑動法蘭和石英支架結構,方便式樣的裝載和卸載。循環(huán)水冷法蘭密封,可在熱處理工程中保證真空條件和氣氛保護,防止氧化發(fā)生。
 
  CVD石墨烯制備雙溫區(qū)滑軌式CVD系統(tǒng)爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa
 
  當爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態(tài)進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊
 
  石英管的長時間使用溫度<1100℃
 
  對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)。
 
  產(chǎn)品特點:
 
  1控制電路選用模糊PID程控技術,該技術控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。
 
  2氣路快速連接法蘭結構采用本公司*的知識產(chǎn)權設計,提高操作便捷性。
 
  3中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統(tǒng)采用高壓強,耐沖擊分子泵
 
  防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統(tǒng)使用壽命。
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